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使用镀膜机时如何控制薄膜均匀度

发布日期: 2019-07-16
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  镀膜机有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机,在高真空状态下通过高温金属熔体铝蒸发,铝蒸镀到塑料薄膜的表面上,使金属设备表面的塑料薄膜。
  镀膜机可以直接驱动的蒸发源,通过PID控制回路传动挡板,使蒸发率。只要仪器和系统控制软件的连接,它可以控制涂层的全过程。但(QCM)的准确性是有限的,镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。此外,虽然QCM在低温下非常稳定,但温度高,它将成为对温度很敏感。在长时间的加热过程中,镀膜机很难避免传感器为敏感的区域,导致薄膜的重大错误。
  随着镀膜技术的快速增长,各种类型的镀膜机也开始逐渐出现。但是论起薄膜的均匀性,恐怕没有哪一种镀膜机是一定均匀的。通过真空状态下正交磁场使电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材,靶材离子沉积于工件表面成膜。如此车灯镀膜机厂家就该考虑与膜层厚度的均匀性有关的有真空状态、磁场、氩气这三个方面。
  真空状态就需要抽气系统来控制的,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就可以控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空计的存在,要控制好还是不成问题的。
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