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使用离子束制备SEM样品:徕卡EM TIC 3X三离子束研磨仪

发布时间:2022/8/31      点击次数:35
 如今,离子束蚀刻技术是应用广泛的电子显微镜样品制备方法。在蚀刻过程中,高能氩离子束轰击样品,并根据其应用领域调整离子束能量和切割角度。
在制备扫描电子显微镜样品时,离子束蚀刻可改善或修改样品表面质量。
首先,离子束刻蚀能够清洁、抛光或增加表面的衬度。经离子束处理的样品表面足以适用于各种灵敏的表面性能测试方法(如EBSD)。
另外,离子束刻蚀也可以通过斜面切割制备样品的横截面。
徕卡EM TIC 3X是一款离子束研磨仪,用于制备扫描电子显微镜样品。可以制备样品的横截面以及大面积表面。
样品的横截面还可以使用低能离子束再次处理。该处理过程既可以清洗横截面,也能增强其衬度。
另外,EM TIC 3X可以通过离子束抛光工艺改进样品的机械抛光表面。样品表面的最大离子束制备直径为
25mm,最大样品直径为38mm。
离子束抛光可以清洗、抛光样品表面,并增强其衬度,可以在一台仪器中完成所有类型的扫描电子显微镜样品制备流程。
该仪器配备了一个模块化的系统,可配置5种适用于不同应用的样品台:标准样品台,冷冻样品台,多样品台,旋转样品台和预抽真空系统,用以转移冷冻样品或易氧化的样品。EM TIC 3X的各样品台之间可以轻松转换。
标准样品台适用于众多不同尺寸、形状和材料的样品。冷冻样品台可制备对热敏感的样品,以防样品热损伤。最后,多样品台无须操作人员干预即可连续制备3个样品,保证高样品制备效率。
旋转样品台可以处理直径达38mm的样品表面。
整个样品制备过程和进展可以通过体视显微镜实时观察。另外,也可以选配内置相机拍摄存储样品照片。
TIC3X是一款将所有组件结合在一个外壳内的台式仪器。该仪器采用三离子束技术。三离子束与挡板挡板边缘相交形成100°的切割扇区。该仪器使用鞍形场离子源,在离子束电压10kV和电流3 mA的条件下,切割速率可达300 µm/小时。
使用三离子束技术无需在离子研磨过程中移动样品。
我们将在下面详细讨论这项技术带来的众多益处。这些优点确保了高水平的制备质量。

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