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讲解共聚焦显微镜的工作原理

发布日期: 2019-04-15
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     允许快速和可靠的三维表面分析几乎所有的材料-金属、玻璃、陶瓷、半导体、高分子有机材料。共聚焦技术,使确定可靠的测量数据独立的表面的反射的程度。对纳米焦点技术µsurf的光学方法,µscan和µsprint也使明智的表面无损检测在生产和加工的不同阶段。涂层表面层厚度的测定测量也是可能的。
     共聚焦显微镜的工作原理:由LED光源发出的光束经过一个多空转盘MPD和物镜后,聚焦到样品表面上;之后光束经样品表面反射回到测量系统并在此通过MPD上的小孔后经过半反半透镜反射后只有聚焦位置的反射光束才能经过CCD前的小孔并在相对应的CCD像素上成像。多孔转盘通过高速旋转,率完成全部样品表面扫描。传统光学显微镜的图像包含清晰和模糊的细节,相反,在共聚焦图像中,通过多孔转盘将模糊细节(未聚焦)滤除,只有来自焦平面的反射光到达CCD相机。因此,共聚焦显微镜能够获得纳米级别的高分辨率。每个共聚焦图像都是样品形貌的水平切片。共聚焦显微镜通过压电驱动使物镜垂直位移来实现在不同高度位置的图像堆栈。通常在几秒钟内捕获数百个共聚焦图像,之后软件采用高精度共聚焦算法利用共聚焦图像堆栈重建的三维图像。
     共聚焦显微镜的灵活性可以使用一种测量技术完成各种测量任务,在太阳能行业中应用广泛,覆盖范围从大学和研究所的研发中心直到生产过程的控制。
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